Sobib Hitachi KM11 õlirõhuandurile EX200-2-3-5

Rõhuanduri neli rõhutehnoloogiat

1. Mahtuvuslik

mahtuvuslikke rõhuandureid eelistavad tavaliselt paljud OEM-i professionaalsed rakendused. Kahe pinna vahelise mahtuvuse muutuste tuvastamine võimaldab neil anduritel tuvastada äärmiselt madala rõhu ja vaakumi taseme. Meie tüüpilise anduri konfiguratsiooni korral koosneb kompaktne korpus kahest tihedalt asetsevast paralleelsest ja elektriliselt isoleeritud metallpinnast, millest üks on sisuliselt diafragma, mis võib surve all veidi painduda. Need kindlalt fikseeritud pinnad (või plaadid) on paigaldatud nii, et koostu painutamine muudab nendevahelist pilu (tegelikult moodustab muutuva kondensaatori). Saadud muutuse tuvastab tundlik lineaarne komparaatorlülitus (või ASIC), mis võimendab ja väljastab proportsionaalse kõrgetasemelise signaali.

2.CVD tüüp

Keemilise aurustamise-sadestamise (või "CVD") tootmismeetod seob polüränikihi roostevabast terasest membraaniga molekulaarsel tasemel, tekitades seega suurepärase pikaajalise triivimisvõimega anduri. Suurepärase jõudlusega polüräni tensomõõturi sildade loomiseks väga mõistliku hinnaga kasutatakse tavalisi partiitöötluse pooljuhtide tootmismeetodeid. CVD-struktuuril on suurepärane kulutasuvus ja see on OEM-rakenduste kõige populaarsem andur.

3. Pritsimiskile tüüp

Kile pihustamine (või "kile") võib luua maksimaalse kombineeritud lineaarsuse, hüstereesi ja korratavusega anduri. Täpsus võib olla kuni 0,08% täisskaala väärtusest, samas kui pikaajaline triiv on igal aastal 0,06% täisskaala väärtusest. Võtmeinstrumentide erakordne jõudlus – meie pihustatud õhukese kileandur on rõhuanduritööstuses aare.

4.MMS-i tüüp

Need andurid kasutavad rõhumuutuste tuvastamiseks mikrotöötlusega räni (MMS) membraani. Räni membraan eraldatakse keskkonnast õliga täidetud 316SS abil ja need reageerivad järjestikku protsessivedeliku rõhuga. MMS-andur kasutab tavalist pooljuhtide tootmistehnoloogiat, mis võimaldab kompaktses anduripaketis saavutada kõrge pingetakistuse, hea lineaarsuse, suurepärase termilise šoki jõudluse ja stabiilsuse.